光刻机是用来制造芯片的,21世纪以来,所有的智能设备都离不开集成电路,而一块集成电路板的核心部件就是芯片,芯片犹如人的大脑控制着各个系统的运作,使其稳定运行,光刻机又有另外一个名字,叫"掩膜对准曝光机",主要用于光刻工艺在芯片生产当中,而光刻工艺这一步在生产流程当中最为关键,也是很困难的一步,我国在光刻技术领域也是被外国牵制了20年,直到现在,打压华为,打压高新技术产业,限制我国的发展,由此可见,光刻机在芯片生产当中起到多么重要的作用。今天,小编就带着大家来讲讲光刻机到底是怎么制作出来的。 整体来看,光刻机的工艺流程为:硅片表面进行清洗——高温烘干——涂硅底——涂抹光刻胶——软烘干——对准曝光——后烘干——显影——硬烘干——激光雕刻等工序。经过一次光刻以后的芯片,又可以继续进行涂胶和再次曝光的过程。越是复杂的芯片,其线路图层数就越多,因此也需要更精密的曝光控制过程。举个通俗易懂的例子,像是白菜上雕花,只不过是在硅片上雕刻。首先,工程师们将制作出来的硅片在其表面涂上一层光刻胶,然后利用紫外线等光线,透过掩膜照射在硅片的表面上,光刻胶就会发生化学反应,此时在硅片上进行雕刻,最后洗去光刻胶,就会留下在硅片上的构建轮廓图。光刻机就是这把雕刻刀,正因为是在极其小的硅片上雕刻,其难度系数也是相当的大。 放眼全球,能做到的国家也是寥寥无几。这样操作下来,一台光刻机由上万个零部件构成,而且,在整个制作过程当中,用到了很多技术,有数学,光学,高分子物理学,表面化学,流体力学,还要有精密的仪器,机械自动化,电脑软件,图像识别技术等这么一个科技顶尖产物,因此,也有人比喻说,光刻机是半导体工业皇冠上的一颗明珠。一个小小的零件,工程师们都要调整10多年之久,哪怕其尺寸也来不得半点马虎,经常要调试百万次以上,这体现出了人类高度发达的文明与智慧。 当下,掌握这项技术的正是荷兰的ASML,其市场份额也占到了85%,而且,也只有ASML可以生产7nm及以下高精度的光刻机。我国紧追慢赶从90nm到29nm用了18年,相比之下,我们国家还需要很长一段路要走,如今的中国,早已是制造大国,相信,不仅仅航天领域有中国的一席之地,在半导体方面也会遥遥领先全世界,让我们拭目以待吧。