好消息电子研究所所长表示，国产14纳米芯片明年底可实现量产。
　　如果说28纳米国产芯片能够解决温饱，那么14纳米才是国产芯片的中间力量。
　　数据显示，整个半导体行业65%的芯片均采用14纳米的制程工艺，是绝大多数中高端芯片的主要制成。
　　目前我国，在14纳米芯片的发展中已攻克许多技术难题，如刻蚀机、薄膜沉积等关键装备，实现了从无到有后到封装集成技术成果全面实现量产等。但光刻机技术难题依然存在。
　　目前我国芯片自给力不足20%，预计到2025年自给率达到75%的目标还有较大空间。
　　当然想要实现国产芯片2025年达到75%自给率，最重要的就是攻克EUV光刻机，在有些人眼里中国可能永远无法攻克EUV光刻机技术难题，那么我想说的是：
　　别忘了，无论他有多先进都是人造的，不是神造的。中国人或许没有能力造出太阳地球或月亮，但是最先进的光刻机我相信中国一定能够造出来。万米深海我们去了、月亮我们去了、火星我们去了、空间站我们也建好了，那还有什么是中国人做不到的呢？
　　既然我国基本上在很长一段时间内都无法从ASML获得EUV光刻机，那么只有自研一条路了，当一个个核心技术被攻克时，也就意味着我们离最终的胜利又近了一步。
　　底什么时候能够造出EUV光刻机？个人觉得快的话5年左右，慢的话7-8年绝对也能够搞定。
　　当然这个时间很多人觉得是痴心妄想，不管怎样，咱们要给国产半导体不断加油打气，同时也让我们拭目以待等待几年我们再来看一下。

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