集成电路中国光刻机

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　　在分享中国的光刻机情况之前，我们先看看目前全球光刻机的龙头厂商荷兰ASML阿斯迈尔公司的光刻机。ASML公司虽然位于荷兰，但其制造的光刻机是全球各国，特别是以美国为首的西方国家共同合作的结果，10万多个零件、4万多个螺栓、3000根管线等集中了各行业最顶尖的技术和零件：光源技术从美国来、光学设备来自日本、轴承来自瑞典、机械部件和镜头来自德国、管线来自韩国还有中国台湾。
　　在光刻机界，1984年阿斯迈尔ASML其实是不折不扣小弟，在他之前，日本的尼康和佳能已经把美国光刻机公司打趴下了。ASML在日本两强面前也是毫无还手之力，转折发生在英特尔组织的EUV（极紫外线）技术攻关和ASML采用了林本坚的浸润式光刻法。ASML公司在2004年推出了第一台新型光刻机，开始了逆袭。2012年，英特尔联合三星、台积电共同对ASML注资52.29亿欧元，建立了供应商和下游的紧密合作样板。有了三巨头的支持，ASML从此彻底统治了光刻机市场。
　　ASML阿斯迈尔今天的成功，是整个西方工业体系、资金、人才、政策合力的结果。而中国要研制先进光刻机，意味着要以一国之力和全球领先国家比赛，还要面临技术封锁等诸多不公平的竞争环境。难度可想而知，所以当国家提出要造国产光刻机的时候，乐观者认为我国一穷二白的时候能造出原子弹、能在被NASA封锁的情况下登录月球和火星，光刻机也一定能被国人拼搏奋斗精神所克服。
　　国内在进行光刻机研发的企业和机构主要有中科院长春光电所、清华大学、上海微电子等，其中上海微电子是我国唯一的专业光刻机厂商。长春光电所在研的是EUV光刻机，技术路线和ASML相同，目前已经取得了多项相关专利，研制成功后可以实现7纳米以下制程，虽然相较ASML最新的2纳米光刻机有代差，但也极大的缩小了差距。上海微电子已经成功研发了28纳米DUV（深紫外线）型光刻机，预计将于2022年交付。集成电路领域28纳米是制程分水岭，28纳米以上是成熟制程，主要用于MCU、ASIC/FPGA、移动终端、物联网、汽车电子等领域。28纳米以下是先进制程，用于智能手机等消费电子、CPU、GPU等对性能和功耗有极强要求的领域。上海微电子一举让国产光刻机制程从90纳米迈入28纳米先进制程，交付后基本满足国内各行业的需求。
　　国产光刻机研制的突破也让ASML紧张不已，在屡次拖延交货的情况下，绕过禁令向中芯国际交付了DUV光刻机，虽不是最先进的EUV，但也能实现7纳米制程，解决国内对高端芯片的燃眉之急。
　　＂罗马不是一天建成的＂，光刻机这种集中人类最高智慧设备，要攻克难度可想而知，对国产光刻机的突破我们振奋不已，但同时也要正视差距，任重而道远。
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