关于国产光刻机，好消息一个接一个，ASML还受得了吗？

　　本文原创，禁止搬运和抄袭，违者必究！  国产光刻机接连传来好消息
　　中国已经在加快国产芯片的进步了，美国邀请台积电赴美建厂，三星也紧随其后。同时美国拿出520亿美元补贴，再加上64家企业巨头联合成立了美国半导体联盟。还有欧盟、韩国、日本等地区，都在布局芯片制造行业，中国又岂会落下脚步。
　　以中芯国际为例，正在北京和上海建设28nm芯片厂，对提升国产芯片的产能是有巨大帮助的。另一方面，国产芯片材料、技术、人才等方面，都有了相应的布局。
　　而这一切，都是为了实现国产芯片的自给自足。但是要想实现自给自足，还有很重要的一项关键，那就是光刻机。
　　没有光刻机，就无法生产芯片。国内大部分的光刻机均为进口，不过在美国对中国半导体行业频频出手后，关于国产光刻机，好消息一个接着一个。
　　比如中科院宣布参与光刻机的技术攻克。清华大学在一项SSMB光源上取得重大进展，有望用于EUV光源。另外上海微电子正在研发ArF 浸没式光刻机，制程可覆盖45-22nm。
　　此前上海微电子就传来要交付一台28nm光刻机的消息，相信这台光刻机的进展是比较顺利的。
　　ASML还受得了吗？
　　国产光刻机正在加速前行，接连传来好消息。相信只要有足够的时间，未来取得的进展突破还会更大。这时候再看ASML公司，不知道还受得了吗？
　　ASML非常希望在中国市场深入布局，可是美国的出口管制规则，让ASML无法顺利向中国大陆客户出货EUV光刻机。仅能涉及DUV光刻机的交易。
　　若没有EUV光刻机的支持，中国芯片很难攻克到5nm。但目前而言，中国主要以提升产能为主，攻克高端工艺为辅。过程中离不开成熟工艺制程的光刻机设备，这项设备以中国的制造能力，还是有望突破并实现自给自足的。
　　而恰好是成熟领域的光刻机，有更多的市场需求。ASML每年的EUV光刻机出货量和客户都十分有限。需要通过中国市场，获得更多成熟工艺制程光刻机发展机会。
　　随着国产光刻机捷报连连，ASML还受得了吗？估计ASML也很无奈，高端无法出货，成熟工艺领域，中国又在加快布局。
　　估计ASML也要沉不住气了，所以接二连三发出警告，称出口管制会损害美国经济。而自己也可能在未来失去中国市场份额。
　　国产化势在必行
　　以中国光刻机的发展速度，实现成熟工艺自给能力相信是没有太大问题的。成熟工艺包括28nm到55nm，看似属于低端芯片制程，但生活中90%的设备芯片都采用成熟工艺。
　　并且随着物联网，智能家居和人工智能的发展，对成熟工艺芯片制造的需求还会越来越大。只有少数手机、电脑、平板等电子消费产品，才会用上高端7nm，5nm。
　　所以在打造成熟工艺制程芯片技术及光刻机设备这一块，中国会继续付诸行动，加大研发投入。取得国产化势在必行。
　　那是不是说要因此放弃高端芯片，光刻机技术研发呢？并不是。在全面投入高端芯片，光刻机研发之前，需要循序渐进，先把成熟工艺芯片，光刻机做好，再去攻克高端技术。
　　否则直接步入高端研发的话，很可能因根基不稳，导致失败。这样的问题应该避免，适合自己的路，才是最好的。别看国外研发5nm，3nm，我们就要一股脑投入其中。等具备相应的实力再来布局也不迟。
　　总结
　　中国在光刻机领域加以布局，虽距离国际水准还有进步空间，但中国不会停止自研光刻机的脚步。美国对国产芯片，半导体的限制，更让我们意识到，关键时刻必须掌握核心技术，才不会受制于人。
　　对此，你有什么看法呢？
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