光刻机对于芯片生产的重要性不言而喻,殊不知,除了光刻机这种核心设备,光刻胶等关键材料,也对芯片的光刻环节起到决定性作用。 打破日企垄断 5月11日的最新消息,南大光电表示, 公司自主研发的ArF光刻胶产品已经成功通过使用认证,并已经拿到国产光刻胶的首个订单。 业界将光刻胶,比作版画刻印过程中所需的油墨。由此可见,光刻胶的质量对芯片的良品率具有重要影响。 公开数据显示,来自日本、德国等国的公司,占据了全球光刻胶80%以上的市场。 尤其是日本的JSR、TOK、信越化学三大巨头,更是全球唯一能够供应EUV光刻胶的厂商。 高技术壁垒下,我国的半导体企业只能大规模进口光刻胶, 市场的对外依存度甚至高达90% 。因此,南大光电此次取得的突破,对国产光刻胶打破垄断实现崛起,具有重要意义。 财报显示,南大光电已经建成了两条光刻胶生产线,自主研发的ArF光刻胶也在继续进行更大范围的客户验证工作,以扩大商用规模。 研发投入行业领先 在众多半导体材料中,光刻胶属于核心战略性材料,制备难度极高。因此,对于南大光电等国内企业来说, 自研光刻胶基本属于从无到有的过程。 据悉, 南大光电不仅自主研发出很多被垄断的中间体材料,而且摸索出诸多决定光刻胶性能的关键数据。 因此,南大光电此次取得突破的意义并不局限于光刻胶单一产品本身,对于国产光刻胶生产原材料、生产工艺制程等,都有推动作用。 而在这背后,是南大光电多年维持在高位的研发投入。2019年,南大光电的研发支出为0.66亿元,同比大增76.28%,占到总营收的20.49%; 到2020年,南大光电的研发支出再次大增247.54%,占总营收的比重上涨至38.98%。 业界分析指出,南大光电的研发支出增速和占总营收的比重, 在国内半导体材料行业均处于领先水平。 在高研发投入的支持下,南大光电建立起1500平方米的研发中心,并招揽了大批高端光刻胶专业人才。 这也解释了为什么南大光电在2019年启动193nm ArF光刻胶研发项目后, 仅用一年时间便通过了产品认证并拿到订单。 如今的南大光电已经成长为光刻胶国产替代的龙头企业,可以预见,在南大光电等国内企业的努力之下,国内在高端光刻胶领域也终将取得突破。 文/禹汐 审/球子