据悉,本周美国公司Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米,也就是0.7nm的芯片。 该系统被Zyvex命名为ZyvexLitho1,它是EBL电子束光刻方式,制造出了0.7nm线宽的芯片,这个精度是远高于EUV光刻系统的,相当于2个硅原子的宽度,是目前全球已知最高精度的光刻系统了。 该系统制造的芯片应用场景为量子计算机,量子计算机对于精度的要求那是极其的苛刻的。国内在量子芯片较出名的应该是——图灵量子,目前由无锡滨湖区政府引进,坐落在滨湖区的科技中心。 此番美国制造出0.7nm芯片,其技术的领先性可见一斑!国内的半导体行业发展,竞争与压力均是重重,真的是任重而道远。