台积电新消息传来，EUV光刻机有望自由出货！外媒ASML已有数

　　ASML公司是目前世界上光刻机生产技术最先进的厂家，他们的生产技术和生产水平都处于全球前列。 光刻机作为生产半导体和芯片的重要设备，对高新企业发挥着十分重要的作用。粗略估计，生产一部光刻机需要一亿两千万美金，而一部蒸镀机则需要十亿美金。
　　ASML公司的核心技术来源于美国，德国，日本，德国等发达国家。而他们生产的产品当中，关键的DUV光刻机和EUV光刻机，则已经占据了中、高档的市场。 所以，可以说我们国内目前拥有的高端的光刻机，基本上都是来自ASML公司的。 而日本的佳能和尼康，虽然也有生产光刻机的技术和能力，但以他们目前的实力，生产出来的光刻机也只是在中低端的市场上占据一席之地。
　　随着华为5G技术的研发和开始投入使用，美国开始忌惮中国的科技发展速度，于是向中国发起了贸易战。而这场贸易战中，一个重要的内容就是实行禁运令，修改有关芯片和半导体方面的规则。这个规则一修改，马上就使得国际市场的发展空间也受到了限制。
　　芯片及半导体规则的修改，ASML公司也无法幸免遇难，无法自由装运和供货也发生在了他的身上。 新修改的规则规定，在美国生产的DUV光刻机等设备设施，必须要得到美国政府的批准才能出货。这就意味着，如果没有美国政府的批准，这些半导体公司就无法提供给货物和中国。
　　同时这个新规则也规定，凡是采用美国制造的设备和技术的企业，也都要得到美国政府的批准，才能够出口到其他国家。所以，美国颁布的新禁令，不仅打击了芯片公司对芯片的设计、研发和制造的积极性，而且还对他们进行了严格的生产限制，所以导致了严重的损害。
　　要知道， EUV光刻机是在美国生产的，所以没有美国的批准也不能随意出口。因为这些工厂被限制了出口，而已经采购EUV光刻机的厂家，已经全部交足购买光刻机的钱，但却因为这个规则，还没有收到光刻机。 高达数十亿金额的投入，没有收到产品，这也导致了结余，使国内的供货商面临巨大风险。同时，在我国的销售渠道和专利产品的商业秘密等问题上，我们的产品都受到了限制。
　　因为我国人口数量庞大，所以我们国内市场也是世界上最大的晶片消费市场，与此同时，我国的智能手机市场发展速度也是最快的。为了方便生产，台积电，三星，SK海力士等半导体和芯片，也纷纷在我们国内设立工厂，招聘科研人员，所以他们都在大陆拥有大批的生产基地。 因为这些芯片大厂的存在，使得ASML公司生产的高端光刻机，在国内的需求量也是居高不下的。
　　但是在美国修改芯片规则这个情况下，即便ASML公司一直在为获得美国政府的许可而努力，甚至还学习高通发出了通知，以示对美国的警告。但是，他们期望能尽快地获得免费的出口的目的，还是落空了。而在今天，台积电又传出了关于 EUV光刻机能够实现自由出货的最新消息。
　　据报道，ASML公司发布了最新版本的EUV光刻机，其NA数值为0.55，具有很高的技术，同时也有良好的性能，因此他的售价也更高。 但是，台积电这次并没有大规模采购这种类型的光刻机。 美国政府已经开始限制5 nm芯片的制造，而台积电这个合作者，也必须要遵守美国的限制。
　　针对ASML公司这次光刻机技术上的创新和升级，台积电也表示，到2024年，它们研究许久的光刻机也会面世——将会拥有ASML公司最新的下一代光刻设备：High-NA EUV光刻机。 台积电首创的High-NA EUV光刻机将会取代 EUV光刻机成为最新的光刻机。而High-NA EUV光刻机不仅是采用了最新的技术，同时也大幅度提高了它在生产芯片的效率。
　　我们可以了解到，High-NA EUV光刻机作为一款全新的光刻机，一旦在市场上推出，就代表着目前ASML公司的EUV技术已经不是最尖端的技术了。而这一次的提升，不仅仅是性能上的提升，更是全面的提升。
　　ASML公司此前也曾明确指出，瓦森纳协议禁止将最尖端的光刻机等产品运至某些区域。根据瓦森纳公司的说法，荷兰ASML公司的光刻机在中国是不可能购买的，所以这也造成了中国在芯片上的技术也受到了一定的制约。
　　荷兰ASML公司的光刻机的关键技术，大多来自美国，因此美国对中国公司进行技术封锁，我们也只能忍气吞声。 毕竟中国是新兴的国家，要赶上荷兰ASML公司，难度很大。同时美国又不希望中国的芯片技术得到发展，因此对中国的芯片技术进行了打压。
　　但是， 到2024年，台积电全新的High-NA EUV光刻机将会出现在市场上，而那是ASML公司的EUV光刻机已经不是最尖端的技术了，所以从理论上来说，这也就不在美国瓦森纳协议里，已经可以批量生产了。 同时，中国正在发展其技术，中国企业的专利数量也在增长。
　　因为EUV光刻机比DUV光刻机要更加先进，因此，DUV光刻机可以批量生产并且可以自由供货，也正是因为如此，我们国内的芯片制造商，从ASML公司那里，采购了11亿美元的DUV光刻机。
　　据国外媒体报道， ASML公司已经做好相关的调查和计划，并且曾经也暗示，到2025年前后，EUV的光刻机的自由供货将不会被限制。 但是至于ASML公司的这些暗示以及具体细节，现在还不得而知，但若真是如此，其目的也很明显，即要进一步打开他们在全球光刻机的市场，并在技术上开创新的突破。
　　据报道称，ASML公司宣布，要将EUV光刻机推向市场，同时也将会加大 EUV光刻机的产能。今年和明年，将会有115台EUV光刻机被市场别且对外销售。此外，ASML公司还在中国国内大量招聘科技人才，同时还是中国也建立了多个研究和开发中心。
　　同时，到2025年，ASML公司也计划在全球范围内，实现EUV光刻机提供和安装率达到60%以上。
　　这意味着，为了达到这样的高效率，EUV光刻机就必须要实现批量的生产，否则就根本不可能做到60%及以上这么高的覆盖率。 其实说起来简单，但要做到这一步，就必须要进行大量的调查研究，对数据进行分析，对技术进行调整，这其中的工作量就更大了。
　　为了证明这一计划的可行性，ASML公司还宣布，新一代High-NA EUV光刻机将于2023年完工，最早将于2024年，交付给各厂家进行测试，并于2025年实现量产。由此可以看出，这一次的盛大且令人兴奋的上市，绝对是一件令人兴奋的事情。但有业内人士对外透露，这次大规模生产不仅要有技术支撑，还要有资本和后市场运作。
　　换句话说，如果更高技术含量的High-NA EUV光刻机能够在市场上销售的话，那么现在的EUV光刻机，理论上是可以量产并且实现自由供货的。
　　另外，ASML公司也在为 DUV光刻机等设备的出口做着艰苦的工作，近几年来，已有78部完成，而今年一季度，就有23部。 从购买商的角度来看，这也是一个很大的优势，而这个优势给了他们很大的信任，也可以放心了。
　　从 ASML公司这些举动来看，ASML公司对EUV光刻机投入了很大的期待和准备。中国是全球最大的发展市场，所以他们不会轻易放弃中国的市场。
　　与此同时，我们国内的光刻机技术也有了飞快的进步。我们自主研发的第八代的浸润系统也已经完成，目前正在进行中试。 同时，大批国外设备的陆续到达，也不仅激励着国内同行，同时也激励着我们的责任感和紧迫感，积极研发新的设备，以取代国外的设备，降低我们对国外设备的依赖程度。
　　我们必须加强对科技创新的投资，提高我国的设备和技术，促进我国企业的发展。尽管国内的仪器设备和国外的设备相比仍有一定的差距，但是我们的发展进步空间是巨大的，所以它的成长也将会非常迅速。
　　而且，华为还说，未来三五年内，美国的芯片行业肯定不会再能够再我们国内是芯片市场达到垄断的地位。 到时候ASML公司的光刻机和其他设备，不可避免地也都会受到很大的影响。
　　而随着我们国家政策的不断完善，半导体行业的发展必然会更加迅速。虽然我们国家的科技水平有了很大的提升，但是我们不会就一直停留再中国阶段，我们也会不断的研究，不断的掌握新的技术，因为在这个世界，就是用实力说话！
　　在这种情况下，  ASML当然是想尽快将拥有更高技术含量的EUV光刻机生产出来。这也是为什么国外媒体会说 ASML已经想好了之后的计划的原因。