新消息，ASML首次对外承认，外媒终局已定

　　ASML是光刻机市场的龙头企业，在高端光刻机市场占有过半的市场份额，而在最为旗舰的EUV光刻机上，目前ASML还没有对手。
　　EUV光刻机是制造先进工艺芯片的生产设备，在逻辑芯片、模拟芯片和存储芯片领域都有所应用。
　　从目前的情况来看，由于受到芯片结构性短缺等各个方面的影响，ASML的EUV光刻机在差能上不足。
　　所以我们就看到，三星李在镕第二次到访了ASML，目的就是为了得到EUV光刻机。
　　不过近日ASML方面却宣布了新的消息，ASML首次对外承认，其到2025年，EUV光刻机的生产将大于需求。
　　也就是说，EUV光刻机将供大于求，市场上将不再需要那么多的EUV光刻机，ASML需要找到解决EUV光刻机销路的办法。
　　对此外媒方面评价称终局已定，ASML需要作出向中企供货的决定了。
　　因为事情其实比ASML所预料的还要严重。
　　上文中我们提到，用到EUV光刻机的是三大芯片，但是并非必须是EUV光刻机。
　　例如在3D NAND闪存芯片上，国际上的大厂都将目光瞄准了EUV光刻机，但是我们国内厂商却找到了另外的路，使得国产3D NAND闪存芯片一举追上了一线大厂。
　　在DRAM内存芯片上，像三星、美光、SK海力士等，也都是将希望寄托在EUV光刻机上，然而我国的芯盟科技也开发了新的技术，绕开了对EUV光刻机的依赖。
　　要知道存储芯片的市场当量，比逻辑芯片还要大，所以如果存储芯片市场撕开了不需要EUV光刻机的口子，对ASML来说显然不是一个好消息。
　　而在其他类型的芯片上，目前市场也有新的解决方案，例如NIL技术就是如此，该技术不仅可以做到EUV光刻机支持的先进工艺，而且成本更低，耗电量也更少。
　　近日媒体就曝出，我国台湾省电费开始大涨，台积电为此要多支付40亿，而台积电每年要支付的电费已经超过300亿。
　　所以对于半导体企业来说，电费也是一个成本大户，所以这么来看，ASML的EUV光刻机其实存在着巨大的弱点。
　　只不过因为暂时没有竞争对手，这个弱点没有被关注，但以后也就不一定了。
　　当然，我们也在努力的研发EUV光刻机，在之前的文章中我们就已经指出，中科院方面已经针对EUV光刻机的各个方面，展开了面向全球的招聘。
　　由此可以看出，对EUV光刻机构成、细节、难点等都已经完成解构，下一步就是并行开发实行逐个的单点突破。
　　而且根据之前的媒体报道称，在光刻机关键的物镜方面，我们的国内供应商已经开始陆续进入设备导入阶段，距离量产也就只有一步之遥。
　　这意味着国产光刻机将会迎来一个破冰的局面。
　　以上这些因素，对于2025年的ASML来说都是不利的局面。
　　而ASML是在2019年才开始真正地实现商用量产交付，而到2025年也才量产交付6年。
　　因此对于ASML来说，还需要持续的出货，毕竟ASML研发EUV光刻机投入了400多亿资金。
　　而其下一代高NA EUV光刻机，目前来说其实情况也不乐观，据悉目前其只接到了6台的订单。
　　所以我们整体来看，也就是可以理解外媒所说的终局已定，ASML需要作出对中企出货的决定的原因，那么对此大家怎么看呢？欢迎评论区评论、点赞和转发。