上海微电子之后，大族激光成功破冰，接进式光刻机已投入市场

　　芯片大战愈演愈烈，芯片限制已升级为芯片制造机器的限制，大家都开始关注起光刻机。光刻机是什么？我们泱泱大国不能生产吗？肯定的回答：中国可以！
　　中国早在1966年就生产出国内第一台65型接触式光刻机，1981年成功了研制接近式光刻机，在当时世界范围都是技术领先。
　　近年我国越发重视光刻机的研发，中国上海微电子以80%市场占有率的实力，担起重任。如今又出黑马，大族激光宣布接进式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化。
　　首先我们来了解下光刻机：光刻机即＂用光雕刻＂，是用于半导体生产中最重要设备。技术难、造价高。英特尔定制业内最强EUV光刻机，价格高达3.4亿美元。
　　光刻机又名：掩模对准曝光机或者光刻系统等：根据曝光模式的不同又分为有接触式、接近式、投影式、高精度双面和单面。后者多用于高精尖的研究领域。
　　投影式曝光光刻机又进一步分为：扫描进步投影式、步进重复投影式和扫描投影式。这就是大族激光提到的接近式和步进式的由来。
　　光刻机制造芯片步骤也很复杂：需要沉积、光刻胶涂覆和曝光、还有计算光刻、烘烤和显影、再有刻蚀、计量和检验、更有离子注入、是视需要重复制程步骤、封装芯片。
　　目前全球生产光刻机的知名品牌有：ASML阿麦斯，Nikon，Canon，上海微电子smee等。Nikon的Arf浸入式光刻机，勉强可以达到ASML的技术高度，尽管价格比ASML便宜一半，却不能撼动AMSL的龙头地位。更因为英特尔的取消订单，一蹶不振。
　　Canon早在多年前就调整战略，放弃了高端光刻机，产品集中在面板领域。上海微电子尽管比荷兰ASML晚20年进入市场，17年自主研发，发展迅猛。
　　近日，好消息频传，首先，由上海微电子生产的光刻机正式移交。是自主研发的第一台封测光刻机，由深圳某科技公司以1800万元购入。
　　无独有偶，大族激光也高调宣布正式进入光刻机市场。大族激光的光刻机分辨率可达3-5μm；公司还将加大科研投入，攻克核心部件，实现国产化。
　　消息一出。股市即刻反应，2月7日大族激光获融资净买入近5000万元；融资余额达14亿元。
　　大族激光是一家有实力的上市企业，1996年在深圳成立，受到国家重点扶持，荣获广东省名牌产品企业称号。还被评为国家高新技术企业，是国家级的创新型试点企业。
　　大族激光提到的接近式光刻机和步进式光刻机达到哪些技术高度呢？
　　接近式曝光（Proximity Printing）
　　接近式成为今年现代光刻工艺中最为广泛的应用。是在掩膜板、光刻胶基底保留0～200μm的缝隙。掩膜板损伤有效避免，耐久使用，图形完整度也非常好。
　　扫描步进投影曝光。该技术至今已经沿用30多年，普遍用于≤0.18μm工艺。掩膜板只有6英寸，曝光比例为四比一，曝光区域仅为26×33mm。
　　在我们为更多中企有能力进入光刻机市场感到高兴的同时，更要对中国芯片自主生产充满信心，因为中国有着良好的芯片生产产业链生态。
　　早在2022年，中芯国际，华虹集团，晶合集成已跻身世界芯片代工前十，踞全球芯片代工排行榜的第五26%，第六20.8%，第九名16.6%.
　　中芯国际实力雄厚，拥有专利10698件，集成电路芯片代工达世界先进水平，能提供0.35微米到28纳米的制程和服务，还掌握了55NM芯片（BCD)代工核心技术，国际最好的是90NM芯片。
　　芯片完成制作需要几百道工序，中国的芯片代工业务非常广泛芯片代工主要业务晶圆生产，芯片封装，芯片测试等。需要的设备也很多：容器，晶圆刻蚀设备，化学整齐沉积设备，晶圆清洁设备，晶圆检查设备，。
　　中国相对成熟的芯片代工产业链，为自主芯片量产打下坚实基础。＂万事俱备，只欠东风＂。相信随着越来越多大族激光这样企业的加入，我们更有信心早日攻克高端芯片制造的技术难关，让中国芯向世界证明实力。