5nm刻蚀机助力中微营收增长五成，世界级刻蚀巨头持续盈利

　　今日，世界级刻蚀巨头——中微半导体设备发布去年年度业绩预告。因主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机外最关键、工艺难度最高的半导体前道加工设备，在国际最先进的 5 nm芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售，且疫情时期＂封控不停产，营运零感染＂，2022年中微公司营收和新签订单金额均同比增长50%以上。79岁的尹志尧带领中微继续为我国芯片制造业奠定底气。
　　业绩预告/图源 中微公司官网
　　营收和新签订单金额均同比增长50%以上
　　1月31日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称＂中微公司＂）发布2022 年年度业绩预告，根据公告来看，中微公司预计2022年营业收入约47.40亿元，较 2021 年增加约 16.32 亿元，同比增加 52.50%。2022年新签订单金额为63.2亿元，较 2021 年增加约 21.9 亿元，同比增加约 53.0%。
　　公司预计 2022 年度实现归属于母公司所有者的净利润为 108,000 万元到120,000 万元，与上年同期（法定披露数据）相比，将增加 6,857.63 万元到 18,857.63万元，同比增加 6.78%到 18.64%。并预计 2022 年度实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润为 86,000 万元到 94,000 万元，与上年同期（法定披露数据）相比，将增加53,560.40 万元到 61,560.40 万元，同比增加 165.11%到 189.77%。
　　中微半导体上市图/图源 官网
　　在公告中，中微公司对本期业绩变化的主要原因进行了说明。其中提到，之所以预计去年营收同比增长高达50%以上，是由于公司主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机外最关键、工艺难度最高的半导体前道加工设备，在国内外持续获得更多客户的认可，市场占有率不断提高，于国际最先进的 5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售。
　　而对于扣非后归母净利润同比增加 165.11%到 189.77%，中微公司对此解释道，主要原因是去年公司克服了疫情的不利影响，做到了＂封控不停产，营运零感染＂。同时受益于半导体设备市场发展以及公司产品竞争优势。
　　除此之外，中微公司也提到了其非经常性损益变动，其中包括，去年计入非经常性损益的政府补助收益较上年同期减少约 1.65 亿元；因股权投资产生的公允价值变动收益和处置收益较上年同期减少约 3.52 亿元，主要是由于部分股权投资于 2021 年产生较大的公允价值变动收益，2022 年的收益相对较小，以及公司持有的中芯国际的股票价格在 2022 年有所下降。
　　中微公司专利数/图源 官网
　　新产品开发取得可喜的进展
　　中微公司的等离子体刻蚀设备在国际最先进的 5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售，为公司实现了营收的高涨。这一消息无疑在全球半导体行业春寒之际，给整个行业，特别是国内半导体市场带来暖意。
　　众所周知，光刻机问题是目前国内芯片制造上最为卡脖子的关键。但其实在芯片制造流程中，有三大最主要生产技术，分别为光刻技术、刻蚀技术、以及薄膜沉积技术，对应得设备为光刻机、等离子体刻蚀机、以及薄膜机，这些主要生产设备缺一不可。
　　芯片制造首先需要光刻机将芯片线路图刻画出来，再交给刻蚀机通过化学或者物理的方法，根据已经显影图案，去除掉不需要的部分。在芯片制造业、光刻机的成本占比在23%到30%左右，刻蚀机的成本占比在20%到27%左右。
　　由此可见，刻蚀设备同样极为重要，且是除光刻机外最关键、工艺难度最高的半导体前道加工设备。
　　目前我国在薄膜机上不存在卡脖子问题，而早在2018年，中微公司也成功研制出了世界首台5nm等离子体刻蚀机。去年下半年，中微公司制造的5nm刻蚀机投入了5nm芯片生产，这是国产刻蚀机重大的突破，极其鼓舞人心。
　　MOCVD设备出货/图源 官网
　　当下，中微公司的设备已进入了台积电等国际一流厂商的生产线。60岁离开全球排名前三的半导体设备公司应用材料，带领15人团队从美国空手归来的中国＂刻蚀机之父＂尹志尧，利用了自己的技术、人脉、管理能力，结合中国的资金和市场，让其一手创办的中微公司成为了世界级刻蚀巨头，也为我国整个芯片制造业奠定不少底气。
　　这几年来中微公司业绩持续向好，自2018年起连续盈利。在新一代 Mini-LED 产业化中，其另一个主打产品 MOCVD 设备在蓝绿光 LED 生产线上取得了绝对领先的地位。
　　中微公司在预告中还提到，各种新产品开发，比如用于更先进微观器件制程的薄膜设备和刻蚀设备，也取得了可喜的进展，即将为公司高速和持续的销售增长作出贡献。
　　据悉，除了刻蚀设备和MOCVD 设备外，中微公司同时在开发集成电路前端所需要的低压化学气相沉积设备（LPCVD）和生长硅及锗硅极关键的外延设备（EPI）。
　　尹志尧在去年上半年的财报致辞提到，未来两年时间，公司还会有比现在十五倍大的厂房陆续建成，为的是确保公司今后10年到15年的发展。并表示：＂等离子体体刻蚀机已成为集成电路前端设备销售增长最快的设备，全球超过了相当于1400亿元人民币的市场，我国市场规模约350亿元人民币＂。
　　奥一新闻记者刘婕