日媒没有一个国家，能独立造出EUV光刻机华为海思能同意吗？

　　小日子媒体：全球没有一个国家，能够独立造出EUV光刻机？
　　自从华为被美国制裁卡脖子后，中国意识到技术的重要性，也加快了自主创新和自给自足的步伐。我认为这对于中国的长远发展是有利的，也能够提高中国在全球竞争中的地位和影响力。
　　那么中国什么时候能自主研发出EUV光刻机？？华为海思什么时候能自主研发出EUV光刻机？？
　　EUV光刻机是一种使用极紫外光（波长13.5nm）作为光源的光刻机，能够实现7nm甚至更低的制程工艺，提高芯片的性能和密度。EUV光刻机是目前最先进的半导体制造设备，也是摩尔定律继续推进的关键技术。
　　EUV光刻机的研发历史可以追溯到上世纪90年代后期，当时由美国能源部牵头，集合了英特尔、AMD等公司以及三大国家实验室组成了EUV LLC联盟，证明了EUV光刻技术的可行性，并邀请了荷兰ASML公司加入。
　　ASML公司是目前全球唯一能够生产和交付EUV光刻机的厂商，其主要上游供应商包括德国蔡司（Zeiss）公司和美国Cymer公司。ASML公司在2006年推出了EUV光刻机的原型，在2010年造出了第一台研发用样机NXE3100，在2015年造出了可量产的样机NXE3300，在2019年推出了效率更高的NEX:3400C。
　　EUV光刻机非常昂贵和稀缺，每台售价超过1亿美元，而且供不应求。目前全球只有三星、台积电、英特尔等少数几家半导体巨头拥有或订购了EUV光刻机，并已经开始使用它们生产7nm或更低节点的芯片。中芯国际也从ASML订购了一台EUV光刻机，但因为种种原因，交货时间还未确定。
　　EUV光刻技术仍然面临着许多挑战和难题，比如如何提高激光功率、降低掩模缺陷、优化镜片反射率、减少污染和振动等。ASML公司正在与其合作伙伴研发下一代高NA（数值孔径）的EUV光学镜片，预计在2025-2030年左右投入使用。
　　中国什么时候能自主研发出EUV光刻机？？华为海思什么时候能自主研发出EUV光刻机？？
　　这是一个很有趣的问题，但也很难回答。
　　华为目前并没有公开宣布自主研发EUV光刻机的计划，但是有一些迹象表明，华为对于EUV光刻技术有着浓厚的兴趣和积极的探索。比如，华为在2020年11月申请了一项关于反射镜、光刻装置及其控制方法的专利，该专利涉及到EUV光刻机中的一个重要问题，即如何解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。
　　华为还在2021年4月宣布了芯片新技术：将研发光子计算芯片。这种芯片使用光子代替电子进行数据传输和处理，具有更高的速度和效率，也能够突破传统硅基芯片所面临的物理极限。华为战略研究院院长徐文伟表示：＂未来面向2030年算力需求会增加100倍，打造超级算力会成为巨大挑战。所以华为正在研究模拟计算与光子计算。＂
　　华为在芯片领域不断地投入研发资金、招聘研发人才、加大创新力度。虽然目前华为海思已经无法再继续量产芯片产品，但华为对于海思半导体并没有盈利需求，所以一直会对华为海思半导体持续投资。同时，华为也会继续通过＂芯片库存＂继续向前。
　　综上所述，我觉得华为有着自主研发EUV光刻机或者其他类型的先进光刻机的潜力和意愿，但是具体什么时候能够实现这个目标，则需要看华为能否突破各种技术难题和外部压力。我相信只要华为坚持不懈地努力和创新，就一定会有希望！