中国国产光刻机，只差最后一步，就能实现7nm芯片的制造了！

　　技术能力上的进展非常的重要，中国也正是由于在这方面的缺陷才受处处受气，美国深知这一点，所以对于中国的限制也一直存在，芯片制造领域是目前每个国家都想要推进和发展的，但技术上的呈现并没有这么好获得。
　　我国虽然说这些掌握了5G技术，但之所以一直没有普及，最主要的一大原因就在于中国的芯片制造还支撑不起5G发展，所以即使中国在5G技术上的呈现非常的明显，也难以达到运用美国正是抓住了中国这样的痛点对我们实施了芯片方面的限制。
　　虽然美国的本意是想要对中国的芯片事业发展有所限制，但是却出乎他们所料，中国在那一时期努力地推进自己，还涌现出了很多的国产芯片发展公司，这些公司在后续的芯片制造上创造了更多的优势，发展可能也让中国彻底摆脱了美国的一些芯片性控制，甚至在现在这一发展领域，荷兰的ASML公司为了能够让光刻机的优势依然存在，也想要继续和中国达成一定的协议来推进他们的发展。
　　虽然说荷兰的这家公司存有这样的心思，但是美国也觉得中国芯片事业发展有优势，但如果没有光刻机来进行研制的话，依然难以有呈现，所以也在说服荷兰这家公司继续对中国实施制裁。
　　随着技术领域的不断发展，中国在这方面也有了一些好消息传出，目前我国的国产芯片是已经进入了第五代的发展，这也就意味着我们有了浸润式的光刻机。
　　这一款光刻机能够有更大程度上的能力提升，根据目前的一些数据对比看来，浸润式光刻机能够达到七纳米的芯片制造研制，这样的优势非常的明显，如果说持续推进的话，那么我们也可以彻底摆脱中国在光刻机方面的限制。
　　实力上的不断展现是我们的优势所在，但是这方面并没有这么好获得，美国一直以来的多方限制，就是为了能够让中国受到比较大的威胁，根据目前的一些情况看来，这种目的已经达到了，但浸润式光刻机的出现很有可能能会让中国彻底摆脱这方面的一些阻碍。
　　这款光刻机的出现，可以让我们的最小制造工艺达到七纳米，并且在没有EUV光刻机之前，这也是我们最大的一代技术性发展了。
　　能够达到七纳米的制造工艺对于中国现阶段来说，其实有很大的一些发展技术可能，毕竟5G技术我们已经掌握了，但是由于芯片事业的发展原因，我们一直没能够达到普及现在的国产光刻机也只差最后一步，关于7纳米的芯片制造，也让大家看见了中国更多的可能。
　　按照目前的一些发展看来，用用这一款浸润式光刻机使用四个光照，四次曝光就可以达到七纳米的制造技术，所以说后续的延续发展非常的重要。优势上的展现让大家有了更多的底气，除开这些之外。
　　在芯片发展方面，我们也不仅仅只是死磕光刻机，我们还有其他方面的一些运用，像是光子芯片的制造，光子芯片是一种不需要光刻机来进行技术支撑的芯片制造模式，如果中国掌握了这一实力性发展也就意味着我们可以做更多的技术推进，优势发展可能是最大的一个基础因为光刻机虽然难以突破，但是并不意味着毫无作用，既然不能够在这方面做发展，我们也可以寻找其他的道路。
　　国产光刻机的突破让大家觉得中国有了更多实力，如果浸润式光刻机，真的能够实现的话，那么中国在后续发展过程当中的表现也会更加明显。
　　再加上我们有光子芯片的持续研制，也就意味着即使浸润式光刻机不能够达到euv光刻机更高的一些性能制造，也不必为此而担心，荷兰的光刻机制造公司已经嗅到了危险之处，所以现在也想要向中国抛出橄榄枝，进行持续性的合作，但毕竟中国已经吃过了一次的亏，所以是否和他们进行合作也依然是我们需要考虑的事情。
　　只有实力上的展现越发明显，才会让其他国家害怕，中国实力上的发挥也创造了更多的优势和可能。